共沉淀法制备的CuGa2O4及其气敏性能

高翠苹 汪艳 储向峰 梁士明 高奇 李学

引用本文: 高翠苹, 汪艳, 储向峰, 梁士明, 高奇, 李学. 共沉淀法制备的CuGa2O4及其气敏性能[J]. 无机化学学报, 2019, 35(1): 59-64. doi: 10.11862/CJIC.2019.005 shu
Citation:  GAO Cui-Ping, WANG Yan, CHU Xiang-Feng, LIANG Shi-Ming, GAO Qi, LI Xue. Preparation and Gas-Sensing Properties of CuGa2O4 by Co-precipitation Method[J]. Chinese Journal of Inorganic Chemistry, 2019, 35(1): 59-64. doi: 10.11862/CJIC.2019.005 shu

共沉淀法制备的CuGa2O4及其气敏性能

    通讯作者: 储向峰, E-mail:maschem@sohu.com; 梁士明, E-mail:lsmwind@163.com
  • 基金项目:

    国家自然科学基金(No.61671019)资助项目

摘要: 采用共沉淀法制备了CuGa2O4粉体,采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)等对CuGa2O4粉体进行了表征。研究了热处理温度和pH对CuGa2O4粉体气敏性能的影响,实验结果表明热处理温度为800℃,pH=6.00(热处理4 h)条件下制备出的CuGa2O4粉体,在室温下(18±2)℃对三甲胺(TMA)具有较好的气敏选择性和较高灵敏度,对1 000 μL·L-1的TMA的灵敏度达到310.1,响应和恢复时间分别约为590和80 s,对1 μL·L-1的TMA的灵敏度可达到1.3。

English

  • 金属氧化物作为气敏材料已经被大量的报道,研究中发现这些氧化物半导体存在着许多不足,例如灵敏度较低、选择性不好、部分电阻偏大等。近年来,人们发现具有特定结构的尖晶石型复合氧化物(AB2O4)有良好的气敏特性[1]。Singh等[2]通过溶胶-凝胶法合成的纳米ZnFe2O4在室温下对液化石油气(LPG)有很好的气敏性能。Rao等[3]通过喷雾热解法制备Cu2+掺杂的纳米NiFe2O4,发现1%(w/w) Cu2+掺杂纳米NiFe2O4不仅提高了材料对乙醇的灵敏度而且降低了工作温度。近些年,尖晶石型含镓复合氧化物也有相关的报道,但是有关CuGa2O4气敏材料的文献较少。本实验室Chu等[4]通过共沉淀法制备了NiGa2O4纳米粉体,发现在600 ℃热处理6 h得到的纳米NiGa2O4在室温下和413 ℃下分别对TMA和乙醇具有较高的灵敏度。Chen等[5]通过高能球磨法制备了ZnGa2O4粉体, 发现在240 ℃下对NO2表现出较好的选择性和灵敏度。Satyanarayana等[6]采用传统的固相法制备的ZnGa2O4粉体在320 ℃下对LPG有较好的选择性。Biswas等[7]通过溶胶-凝胶法合成的纳米CuGa2O4在350 ℃下分别对H2、NH3和LPG具有最大的灵敏度,但其选择性较差且工作温度较高。以上文献表明,材料的气敏性能与材料的制备方法和制备条件密切相关,为了提升CuGa2O4材料的气敏选择性和降低工作温度,本文用共沉淀法制备CuGa2O4粉体,并研究了材料对TMA等7种常见气体的气敏性能,发现所制备的材料对TMA有较好灵敏度和选择性。

    氧化镓(株洲市鸿旭实业有限公司、AR),硝酸(溧阳市东方化学试剂有限公司、AR),盐酸(溧阳市东方化学试剂有限公司、AR),五水合硫酸铜(上海凌峰化学试剂有限公司、AR),氢氧化钠(国药集团化学试剂有限公司、AR),无水乙醇(国药集团化学试剂有限公司、AR),去离子水(实验室自制)。

    硝酸镓水溶液的制备参考徐会青等[8]的专利中硝酸镓的制备方法:取3 mL浓硝酸加入到100 mL烧杯中,再加入9 mL浓盐酸,混合后将该混合液倒入150 mL圆底烧瓶中,称取3.133 4 g氧化镓粉末加入上述混合液中,搅拌5 min,然后添加10 mL去离子水,将温度加到90 ℃,回流3.2 h即可得到透明的硝酸镓溶液。

    按Cu2+和Ga3+物质的量之比为1:2制备CuGa2O4粉体。称取一定量的CuSO4·5H2O加入到制备好的硝酸镓水溶液中,搅拌使其充分溶解,用氢氧化钠溶液调节该溶液的沉淀终点pH值,随后进行抽滤,所得沉淀物依次用去离子水、无水乙醇交替洗涤6次后,放入烘箱(80 ℃)烘12 h,得淡蓝色前驱体,将前驱体充分研磨备用。所得前驱体分别于700、800和900 ℃热处理4 h得CuGa2O4粉体(升温速率10 ℃·min-1)。

    取适量CuGa2O4粉体放于研钵中,并加入适量的粘合剂(聚乙烯醇),充分研磨后,将其均匀地涂在Al2O3管的外壁上,制成旁热式气敏元件(图 1a),Ni-Cr丝作为加热丝穿插在Al2O3管内,焊接好的气敏元件如图 1b所示,测气敏性能的实验装置如图 1c所示。通过调节加热丝两端功率来控制工作温度,元件的灵敏度S定义为:

    $ S\text{=}{{R}_{\text{a}}}\text{/}{{R}_{\text{g}}} $

    图 1

    图 1.  气敏元件及测试实验装置图
    Figure 1.  Schematic illustration of sensor structure and diagram of experimental setup

    (RaRg分别为元件在空气中和被测气体中的稳定阻值)。

    使用X射线衍射仪(Bruker D8 Advance)对材料的相组成进行了分析,以Cu 为辐射源(λ=0.154 056 nm),工作电压为40 kV,电流为30 mA,扫描范围为10°~80°,扫描速率为15 ℃·min-1。通过扫描电子显微镜观察材料的微观结构(SEM,Hitachi S-4800),加速电压为10 kV。样品X射线光电子能谱(XPS)在Thermo ESCALAB 250XI上进行测定。粒径分布在纳米粒度仪(马尔文ZS90)上进行了测试。

    图 2是热处理4 h得到的CuGa2O4粉体的XRD图,从图中可知,各衍射峰的位置与标准图(PDF No.44-0183)相吻合,且无其它杂峰。图 2(a)是pH=6.00,热处理温度分别为700、800和900 ℃得到的CuGa2O4粉体的XRD图,当热处理温度为700 ℃时,镓酸铜基本成相,但衍射峰强度较弱;当热处理温度分别升至800和900 ℃时,衍射峰强度增加且峰型变得尖锐,这说明镓酸铜结晶趋于完全。图 2(b)是热处理温度为800 ℃,pH值分别为5.00、6.00和7.00时得到的CuGa2O4粉体的XRD图,从图中可知镓酸铜晶体都已成相,且衍射峰强度基本相同。用谢乐(Scherrer)公式:

    $ D\text{=}K\lambda /\left( B\text{cos}\theta \right) $

    图 2

    图 2.  在不同(a)热处理温度(pH=6.00)和(b)沉淀终点pH值(800 ℃)下制备的CuGa2O4粉体的XRD图
    Figure 2.  XRD patterns of CuGa2O4 powders obtained from different (a) calcinations temperatures (pH=6.00) and (b) pH values (800 ℃)

    式中D为晶粒的尺寸(nm);K为Scherrer常数(K=0.89);λX射线波长(λ=0.154 056 nm);B为衍射峰的半高宽度,需转化为弧度制;θ为衍射角。通过计算可得热处理温度分别为700、800和900 ℃时,晶体的平均粒径分别为16、28和45 nm。当热处理温度为800 ℃,pH值分别为5.00、6.00和7.00时,晶体的平均粒径均为28 nm。根据XRD的测试结果可知,不论是热处理温度的增加,还是pH值的变化,都能得到纯相镓酸铜。

    图 3(a~c)3(d~f)是分别在热处理温度为700、800和900 ℃(pH=6.00)条件下得到的CuGa2O4粉体的形貌和粒径分布图。从SEM图中能够看出制备的CuGa2O4纳米颗粒表面较为粗糙并且由于颗粒的团聚形成了许多孔洞,这种结构有利于气体吸附和扩散,进而提高气敏性能[9]。随着热处理温度的升高颗粒粒径逐渐增大,由于物质大部分是以聚集体的方式存在,使得团聚现象较为严重,谢乐(Scherrer)公式计算得出的单晶体平均粒径(图 2)与粒径分布图 3(d~f)相比充分展现了这一特征。

    图 3

    图 3.  热处理温度为600、700和800 ℃下的(a~c)SEM图和(d~f)粒径分布图
    Figure 3.  SEM images (a~c) and diameter distribution (d~f) of CuGa2O4 powders obtained from different calcination temperatures

    对800 ℃热处理得到的CuGa2O4粉体(pH=6.00)进行了X射线光电子能谱(XPS)分析,如图 4所示。由图 4(a)可知材料是由Cu、Ga、O和C元素组成。图 4(b)中Cu2p由4个峰组成,峰形对称且比较窄,Cu2p1/2和Cu2p3/2的峰分别位于954.3和934.1 eV,所有的Cu2+位于CuO6八面体位点[10]。在图 4(c)中,在1 118.2和1 145.1 eV处分别出现了Ga2p3/2和Ga2p1/2的峰,表明Ga3+分别位于八面体和四面体位点[11],Ga3d的峰位于19.7 eV(图 4(c)中的插图)。根据分峰软件,图 4(d)中O1s的峰可被分成530.1和531.5 eV两个峰,说明在CuGa2O4晶体中有晶格氧和表面化学吸附氧的存在[12-13],CuGa2O4晶体表面大量吸附氧的存在,有利于提高其气敏性能[14]

    图 4

    图 4.  CuGa2O4粉体的XPS谱图(800 ℃,pH=6.00)
    Figure 4.  XPS spectra of CuGa2O4 powders (800 ℃, pH=6.00)

    (a) Survey XPS spectra; (b) Cu2p; (c) Ga2p and Ga3d (inset); (d) O1s

    图 5是CuGa2O4元件对体积分数为1 000 μL·L-1 TMA的灵敏度变化。从图中可知,热处理温度及pH对元件的气敏性能影响显著。pH值为6.00,在800 ℃条件下热处理4 h得到的样品对TMA有最高的灵敏度。

    图 5

    图 5.  不同(a)热处理温度(pH=6.00, 4 h)和(b) pH值(800 ℃, 4 h)条件下CuGa2O4元件对1 000 μL·L-1 TMA的灵敏度
    Figure 5.  Sensitivities of CuGa2O4 gas sensor to 1 000 μL·L-1 TMA under different (a) calcination temperatures (4 h, pH=6.00) and (b) pH values (800 ℃, 4 h)

    图 6是纳米CuGa2O4(800 ℃,pH=6.00)对1 000 μL·L-1的TMA等7种常见气体在不同工作温度下的气敏性能。由图可知,该气敏元件在室温(18±2) ℃下对TMA有较好的选择性和灵敏度,对另外6种气体的灵敏度均小于2.6。但随着工作温度的升高灵敏度迅速地降低,这可能是由于吸附饱和引起的,当工作温度升高时,目标气体在与CuGa2O4表面的氧离子发生作用之前被解吸,从而使得响应降低[15]

    图 6

    图 6.  在不同工作温度下CuGa2O4元件对7种1 000 μL·L-1气体的灵敏度(800 ℃,pH=6.00)
    Figure 6.  Sensitivities of CuGa2O4 sensor to seven kinds of 1 000 μL·L-1 gases at different operating temperatures (800 ℃, pH=6.00)

    图 7(a)是在室温(18±2) ℃下纳米CuGa2O4(800 ℃,pH=6.00)对不同浓度TMA的响应恢复特征曲线,在一定的工作条件下,气体传感器在空气中的电阻达到稳定后(Ra)到接触被测气体后电阻值发生跃迁式变化并达到稳定时(Rg)需要消耗时间,规定从Ra变化到90%(Rg-Ra)需要消耗的时间为响应时间;相同地,元件从被测气体中放入空气中后,电阻值Rg变化到10%(Rg-Ra)的时间为恢复时间。图 7(b)更直观地反应了在室温(18±2) ℃下纳米CuGa2O4(800 ℃,pH=6.00)的响应值与TMA浓度的变化关系。在TMA浓度较低时,响应值随TMA浓度基本呈线性增加。

    图 7

    图 7.  室温下(a) CuGa2O4元件(800 ℃, pH=6.00)对不同浓度TMA (μL·L-1)的响应恢复曲线; (b)元件的响应随浓度的变化曲线
    Figure 7.  Response-recovery (a) and response versus (b) of CuGa2O4 sensor (800 ℃, pH=6.00) to different concentrations (μL·L-1) of TMA at room temperature

    由于将元件从空气中转移到气体中时电阻阻值会发生改变,导致响应值出现小于1的情况,如图 7(a)所示,在室温(18±2) ℃下元件对1 000 μL·L-1 TMA的灵敏度达到310.1,响应和恢复时间分别约为590和80 s,对1 μL·L-1 TMA的灵敏度可达到1.3。研究表明,在还原性气体氛围中n型半导体的阻值会降低。当传感器放置在空气中时,在纳米CuGa2O4表面吸附的大量氧气分子(O2(ads))会形成O2(ads)-和O(ads)-[16-17],随后将传感器放于还原气体(TMA)中时,其表面的O2-会与TMA发生反应,使得电子浓度增加,从而使CuGa2O4的电阻降低。具体过程可用如下反应表示:

    $ \begin{align} &{{\text{O}}_{\text{2}\left( \text{ads} \right)}}+{{\text{e}}^{-}}\to \text{O}_{2\left( \text{ads} \right)}^{-}\text{ }\left( <100\text{ ℃} \right) \\ &\text{O}_{2\left( \text{ads} \right)}^{-}+{{\text{e}}^{-}}\to 2{{\text{O}}_{\left( \text{ads} \right)}}^{-}\left( 100\tilde{\ }300\text{ }℃ \right) \\ &4\text{N}{{\left( \text{C}{{\text{H}}_{3}} \right)}_{3}}+21{{\text{O}}_{2\left( \text{ads} \right)}}^{-}\to 2{{\text{N}}_{2}}+18{{\text{H}}_{2}}\text{O}+12\text{C}{{\text{O}}_{2}}+21{{\text{e}}^{-}} \\ \end{align} $

    利用共沉淀法制备的纳米镓酸铜,热处理温度和pH值对气敏性能的影响较为显著。通过X射线衍射测试可知,热处理温度影响晶体的成相。在pH=6.00,800 ℃热处理4 h条件下制备的纳米CuGa2O4不仅选择性好、灵敏度高,而且还具有较低的工作温度等优势,但纳米CuGa2O4对TMA的响应和脱附时间较长,有待进一步的优化。

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  • 图 1  气敏元件及测试实验装置图

    Figure 1  Schematic illustration of sensor structure and diagram of experimental setup

    图 2  在不同(a)热处理温度(pH=6.00)和(b)沉淀终点pH值(800 ℃)下制备的CuGa2O4粉体的XRD图

    Figure 2  XRD patterns of CuGa2O4 powders obtained from different (a) calcinations temperatures (pH=6.00) and (b) pH values (800 ℃)

    图 3  热处理温度为600、700和800 ℃下的(a~c)SEM图和(d~f)粒径分布图

    Figure 3  SEM images (a~c) and diameter distribution (d~f) of CuGa2O4 powders obtained from different calcination temperatures

    图 4  CuGa2O4粉体的XPS谱图(800 ℃,pH=6.00)

    Figure 4  XPS spectra of CuGa2O4 powders (800 ℃, pH=6.00)

    (a) Survey XPS spectra; (b) Cu2p; (c) Ga2p and Ga3d (inset); (d) O1s

    图 5  不同(a)热处理温度(pH=6.00, 4 h)和(b) pH值(800 ℃, 4 h)条件下CuGa2O4元件对1 000 μL·L-1 TMA的灵敏度

    Figure 5  Sensitivities of CuGa2O4 gas sensor to 1 000 μL·L-1 TMA under different (a) calcination temperatures (4 h, pH=6.00) and (b) pH values (800 ℃, 4 h)

    图 6  在不同工作温度下CuGa2O4元件对7种1 000 μL·L-1气体的灵敏度(800 ℃,pH=6.00)

    Figure 6  Sensitivities of CuGa2O4 sensor to seven kinds of 1 000 μL·L-1 gases at different operating temperatures (800 ℃, pH=6.00)

    图 7  室温下(a) CuGa2O4元件(800 ℃, pH=6.00)对不同浓度TMA (μL·L-1)的响应恢复曲线; (b)元件的响应随浓度的变化曲线

    Figure 7  Response-recovery (a) and response versus (b) of CuGa2O4 sensor (800 ℃, pH=6.00) to different concentrations (μL·L-1) of TMA at room temperature

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  • 发布日期:  2019-01-10
  • 收稿日期:  2018-07-04
  • 修回日期:  2018-10-19
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
  • 1. 

    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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