Zn片经水热反应和氟硅烷修饰构建超疏水ZnO表面

周思斯 管自生 李强 陆春华 许仲梓

引用本文: 周思斯, 管自生, 李强, 陆春华, 许仲梓. Zn片经水热反应和氟硅烷修饰构建超疏水ZnO表面[J]. 物理化学学报, 2009, 25(08): 1593-1598. doi: 10.3866/PKU.WHXB20090755 shu
Citation:  ZHOU Si-Si, GUAN Zi-Sheng, LI Qiang, LU Chun-Hua, XU Zhong-Zi. Fabrication of Superhydrophobic ZnO Surfaces via Zn Foil Hydrothermal Reactions and Fluoroalkylsilane Modified Process[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2009, 25(08): 1593-1598. doi: 10.3866/PKU.WHXB20090755 shu

Zn片经水热反应和氟硅烷修饰构建超疏水ZnO表面

摘要:

以乙二胺为溶剂, Zn片在120、140 及160 ℃经水热反应生长出具有蛋糕形、荷叶乳突状、棒状和仙人球状等微结构的ZnO表面. 扫描电镜研究表明, 反应时间越长越有利于形成完整的微纳米结构, 反应温度较高生成的微纳米结构更规整. 140 ℃反应4 h和160 ℃反应5 h的ZnO表面经过氟硅烷修饰后表现出良好的超疏水性, 与水滴的接触角分别达到154.6°和157.3°, 滚动角分别为5°和3°. 该方法因其操作简便、成本低廉, 在锌表面制备特殊微结构和构建超疏水表面具有潜在的应用.

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  • 发布日期:  2009-07-16
  • 收稿日期:  2009-01-20
  • 网络出版日期:  2009-06-01
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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