单步电沉积法制备CuInS2薄膜

李娟 莫晓亮 孙大林 陈国荣

引用本文: 李娟, 莫晓亮, 孙大林, 陈国荣. 单步电沉积法制备CuInS2薄膜[J]. 物理化学学报, 2009, 25(12): 2445-2449. doi: 10.3866/PKU.WHXB20091125 shu
Citation:  LI Juan, MO Xiao-Liang, SUN Da-Lin, CHEN Guo-Rong. Preparation of CuInS2 Thin Films by One-Step Electrodeposition[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2009, 25(12): 2445-2449. doi: 10.3866/PKU.WHXB20091125 shu

单步电沉积法制备CuInS2薄膜

摘要:

采用单步电沉积法在Mo基底上制备了高质量的CuInS2薄膜. 用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)表征了样品的结构和形貌, 研究了沉积电位、退火温度、pH值、反应物浓度等工艺条件对制备的CuInS2薄膜形貌、组分及性能的影响. 制备的CuInS2薄膜致密平整, 呈黄铜矿结构, 晶粒大小为1-2 μm. 用紫外-可见光分光光度计测试了其光学性能, 计算得到常温下禁带宽度为1.41 eV, 非常适合用作薄膜太阳电池的吸收层材料.

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  • 发布日期:  2009-11-27
  • 收稿日期:  2009-06-05
  • 网络出版日期:  2009-09-29
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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