基底敏感的石墨烯氧化
English
-
-
[1]
(1) Liu, L.; Ryu, S.; Tomasik, M. R.; Stolyarova, E.; Jung, N.; Hybertsen, M. S.; Flynn, G.W. Nano Lett. 2008, 8, 1965. doi: 10.1021/nl0808684(1) Liu, L.; Ryu, S.; Tomasik, M. R.; Stolyarova, E.; Jung, N.; Hybertsen, M. S.; Flynn, G.W. Nano Lett. 2008, 8, 1965. doi: 10.1021/nl0808684
-
[2]
(2) Wu, Z. S.; Ren, W.; Gao, L.; Liu, B.; Zhao, J.; Cheng, H. M. Nano Res. 2010, 3, 16. doi: 10.1007/s12274-010-1003-7(2) Wu, Z. S.; Ren, W.; Gao, L.; Liu, B.; Zhao, J.; Cheng, H. M. Nano Res. 2010, 3, 16. doi: 10.1007/s12274-010-1003-7
-
[3]
(3) Li, Z.; Zhang, W.; Luo, Y.; Yang, J.; Hou, J. G. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 63201. doi: 10.1021/ja8094729(3) Li, Z.; Zhang, W.; Luo, Y.; Yang, J.; Hou, J. G. J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 63201. doi: 10.1021/ja8094729
-
[4]
(4) Fujii, S.; Enoki, T. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 10034. doi: 10.1021/ja101265r(4) Fujii, S.; Enoki, T. J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 10034. doi: 10.1021/ja101265r
-
[5]
(5) Schriver, M.; Regan, W.; Gannett, W. J.; Zaniewski, A. M.; Crommie, M. F.; Zettl, A. ACS Nano 2013, 7, 5763. doi: 10.1021/nn4014356(5) Schriver, M.; Regan, W.; Gannett, W. J.; Zaniewski, A. M.; Crommie, M. F.; Zettl, A. ACS Nano 2013, 7, 5763. doi: 10.1021/nn4014356
-
[6]
(6) Zhou, F.; Li, Z.; Shenoy, G. J.; Li, L.; Liu, H. ACS Nano 2013, 7, 6939. doi: 10.1021/nn402150t(6) Zhou, F.; Li, Z.; Shenoy, G. J.; Li, L.; Liu, H. ACS Nano 2013, 7, 6939. doi: 10.1021/nn402150t
-
[7]
(7) Zhang, Z.; Yin, J.; Liu, X.; Li, J.; Zhang, J.; Guo, W. J. Phys. Chem. Lett. 2016, 7, 867. doi: 10.1021/acs.jpclett.6b00062(7) Zhang, Z.; Yin, J.; Liu, X.; Li, J.; Zhang, J.; Guo, W. J. Phys. Chem. Lett. 2016, 7, 867. doi: 10.1021/acs.jpclett.6b00062
-
[1]
-

计量
- PDF下载量: 0
- 文章访问数: 495
- HTML全文浏览量: 50