纳米银粒子在氨基注入氧化铟锡玻璃基体表面的高密度吸附

李硕琦 刘璐 田辉凤 胡劲波

引用本文: 李硕琦, 刘璐, 田辉凤, 胡劲波. 纳米银粒子在氨基注入氧化铟锡玻璃基体表面的高密度吸附[J]. 物理化学学报, 2011, 27(11): 2671-2676. doi: 10.3866/PKU.WHXB20111135 shu
Citation:  LI Shuo-Qi, LIU Lu, TIAN Hui-Feng, HU Jing-Bo. High Density Attachment of Silver Nanoparticles onto an NH2+ Ion Implanted Indium Tin Oxide Glass Substrate[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2011, 27(11): 2671-2676. doi: 10.3866/PKU.WHXB20111135 shu

纳米银粒子在氨基注入氧化铟锡玻璃基体表面的高密度吸附

  • 基金项目:

    国家自然科学基金(20211130505) (20211130505)

    中央高校基本科研业务费专项资金资助 

摘要: 本文研究了纳米银(AgNPs)在氨基注入氧化铟锡(ITO)薄膜表面的吸附. 通过氨基注入的方法得到了氨基功能化的ITO表面(NH2/ITO), 并将纳米银直接吸附在NH2/ITO上得到纳米银修饰NH2/ITO基体(AgNPs/NH2/ITO). 使用傅里叶红外光谱、X射线光电子能谱、原子力显微镜、扫描电镜、紫外可见光谱和电化学方法对AgNPs/NH2/ITO制备过程进行了表征. 结果显示纳米银可在NH2/ITO表面高密度地吸附, 并且纳米银有良好的电化学活性. 这种不借助于有机连接分子吸附纳米银的方法为制备纳米银修饰材料提供了新的选择.

English

    1. [1]

      (1) Wang, C. M.; Cui, H. Luminescence 2007, 22, 35.  (1) Wang, C. M.; Cui, H. Luminescence 2007, 22, 35.  

    2. [2]

      (2) Wu, X. Z.; Pei, M. S.;Wang, L. Y.; Li, X. N.; Tao, X. T. Acta Phys. -Chim. Sin. 2010, 26, 3095. [吴馨洲, 裴梅山, 王庐岩, 李肖男, 陶绪堂. 物理化学学报, 2009, 26, 3095.](2) Wu, X. Z.; Pei, M. S.;Wang, L. Y.; Li, X. N.; Tao, X. T. Acta Phys. -Chim. Sin. 2010, 26, 3095. [吴馨洲, 裴梅山, 王庐岩, 李肖男, 陶绪堂. 物理化学学报, 2009, 26, 3095.]

    3. [3]

      (3) Quan, H.; Park, S.; Park, J. Electrochim. Acta 2010, 55, 2232.  (3) Quan, H.; Park, S.; Park, J. Electrochim. Acta 2010, 55, 2232.  

    4. [4]

      (4) Yao, H. J.; Liu, J.; Duan, J. L.; Hou, M. D.; Sun, Y. M.; Mo, D.; Chen, Y. F.; Xue, Z. H. Acta Phys. -Chim.Sin. 2007, 23, 48. [姚会军, 刘杰, 段敬来, 侯明东, 孙友梅, 莫丹, 陈艳峰, 薛智浩. 物理化学学报, 2007, 23, 489.](4) Yao, H. J.; Liu, J.; Duan, J. L.; Hou, M. D.; Sun, Y. M.; Mo, D.; Chen, Y. F.; Xue, Z. H. Acta Phys. -Chim.Sin. 2007, 23, 48. [姚会军, 刘杰, 段敬来, 侯明东, 孙友梅, 莫丹, 陈艳峰, 薛智浩. 物理化学学报, 2007, 23, 489.]

    5. [5]

      (5) Spadaro, D.; Barletta, E.; Barreca, F.; Curro, G.; Neri, F. Appl. Surf. Sci. 2010, 256, 3812.  (5) Spadaro, D.; Barletta, E.; Barreca, F.; Curro, G.; Neri, F. Appl. Surf. Sci. 2010, 256, 3812.  

    6. [6]

      (6) Lin, J.; He, C.; Zhao, Y.; Zhang S. Sens. Actuator B-Chem. 2009, 137, 768.  (6) Lin, J.; He, C.; Zhao, Y.; Zhang S. Sens. Actuator B-Chem. 2009, 137, 768.  

    7. [7]

      (7) Li, Y. S.; Cheng, J.; Chung, K. T. Spectroc. Acta Pt. A-Molec. Biomolec. Spectr. 2008, 69, 524.  (7) Li, Y. S.; Cheng, J.; Chung, K. T. Spectroc. Acta Pt. A-Molec. Biomolec. Spectr. 2008, 69, 524.  

    8. [8]

      (8) Arakawa, T.; Munaoka, T.; Akiyama, T.; Yamada, S. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 11830.  (8) Arakawa, T.; Munaoka, T.; Akiyama, T.; Yamada, S. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 11830.  

    9. [9]

      (9) Khalid, M.; Pala, I.;Wasio, N.; Bandyopadhyay, K. Colloid Surf. A-Physicochem. Eng. Asp. 2009, 348, 263.  (9) Khalid, M.; Pala, I.;Wasio, N.; Bandyopadhyay, K. Colloid Surf. A-Physicochem. Eng. Asp. 2009, 348, 263.  

    10. [10]

      (10) Zheng, J.; Li, X.; Gu, R.; Lu, T. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 1019.  (10) Zheng, J.; Li, X.; Gu, R.; Lu, T. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 1019.  

    11. [11]

      (11) Cheng,W.; Dong, S.;Wang, E. Electrochem. Commun. 2002, 4, 412.  (11) Cheng,W.; Dong, S.;Wang, E. Electrochem. Commun. 2002, 4, 412.  

    12. [12]

      (12) Chang, G.; Zhang, J.; Oyama, M.; Hirao, K. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 1204.  (12) Chang, G.; Zhang, J.; Oyama, M.; Hirao, K. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 1204.  

    13. [13]

      (13) Rimini, R. Ion Implantation: Basics to Device Fabrication. Kluwer Academic Publisher: Boston, 1995: 214.(13) Rimini, R. Ion Implantation: Basics to Device Fabrication. Kluwer Academic Publisher: Boston, 1995: 214.

    14. [14]

      (14) Li, D. J.; Niu, L. F. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. BBeam Interact. Mater. Atoms 2002, 192, 393.  (14) Li, D. J.; Niu, L. F. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. Sect. BBeam Interact. Mater. Atoms 2002, 192, 393.  

    15. [15]

      (15) Zhang, D. C.; Shen, Y. Y.; Huang, Y. J.;Wang, Z.; Liu, C. L. Acta Phys. Sin. 2010, 59, 7974. [张大成, 申艳艳, 黄元杰, 王卓, 刘昌龙. 物理学报, 2010, 59, 7974.](15) Zhang, D. C.; Shen, Y. Y.; Huang, Y. J.;Wang, Z.; Liu, C. L. Acta Phys. Sin. 2010, 59, 7974. [张大成, 申艳艳, 黄元杰, 王卓, 刘昌龙. 物理学报, 2010, 59, 7974.]

    16. [16]

      (16) Rautray, T. R.; Narayanan, R.; Kwon, T.; Kim, K. Thin Solid Films 2010, 518, 3160.  (16) Rautray, T. R.; Narayanan, R.; Kwon, T.; Kim, K. Thin Solid Films 2010, 518, 3160.  

    17. [17]

      (17) Li, S.; Li, L.; Liu, C.; Jiao, J.; Xia, J.; Hu, J.; Li, Q. Surf. Coat. Technol. 2010, 204, 2808.  (17) Li, S.; Li, L.; Liu, C.; Jiao, J.; Xia, J.; Hu, J.; Li, Q. Surf. Coat. Technol. 2010, 204, 2808.  

    18. [18]

      (18) Li, S.; Xia, J.; Liu, C.; Cao,W.; Hu, J.; Li, Q. J. Electroanal. Chem. 2009, 633, 273.  (18) Li, S.; Xia, J.; Liu, C.; Cao,W.; Hu, J.; Li, Q. J. Electroanal. Chem. 2009, 633, 273.  

    19. [19]

      (19) Lee, P. C.; Meisel, D. J. Phys. Chem. 1982, 86, 3391.(19) Lee, P. C.; Meisel, D. J. Phys. Chem. 1982, 86, 3391.

    20. [20]

      (20) Nouneh, K.; Oyama, O.; Diaz, R.; Abd-Lefdil, M.; Kityk, I. V.; Bousmina, M. J. Alloy. Compd. 2011, 509, 2631.  (20) Nouneh, K.; Oyama, O.; Diaz, R.; Abd-Lefdil, M.; Kityk, I. V.; Bousmina, M. J. Alloy. Compd. 2011, 509, 2631.  

    21. [21]

      (21) Sandmann, G.; Dietz, H.; Plieth,W. J. Electroanal. Chem. 2000, 491, 78.  (21) Sandmann, G.; Dietz, H.; Plieth,W. J. Electroanal. Chem. 2000, 491, 78.  

    22. [22]

      (22) Grabar, K. C.; Smith, P. C.; Musick, M. D.; Jennifer A. Davis, Walter, D. G.; Jackson M. A.; Guthrie, A. P.; Natan, M. J. J. Am. Chem. Soc, 1996, 118, 1148.  (22) Grabar, K. C.; Smith, P. C.; Musick, M. D.; Jennifer A. Davis, Walter, D. G.; Jackson M. A.; Guthrie, A. P.; Natan, M. J. J. Am. Chem. Soc, 1996, 118, 1148.  

    23. [23]

      (23) Tian, R. H.; Zhi, J. F. Electrochem. Commun. 2007, 9, 1120.  (23) Tian, R. H.; Zhi, J. F. Electrochem. Commun. 2007, 9, 1120.  

    24. [24]

      (24) Ballarin, B.; Cassani, M. C.; Scavetta, E.; Tonelli D. Electrochim. Acta 2008, 53, 8034.  (24) Ballarin, B.; Cassani, M. C.; Scavetta, E.; Tonelli D. Electrochim. Acta 2008, 53, 8034.  

    25. [25]

      (25) Tian, R. H.; Rao, T. N.; Einaga Y. E.; Zhi, J. F. Chem. Mater, 2009, 18, 939.(25) Tian, R. H.; Rao, T. N.; Einaga Y. E.; Zhi, J. F. Chem. Mater, 2009, 18, 939.

    26. [26]

      (26) Creighton, J. A.; Eaton, D. G. J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1991, 87, 3881.  (26) Creighton, J. A.; Eaton, D. G. J. Chem. Soc. Faraday Trans. 1991, 87, 3881.  

  • 加载中
计量
  • PDF下载量:  805
  • 文章访问数:  2479
  • HTML全文浏览量:  13
文章相关
  • 发布日期:  2011-10-27
  • 收稿日期:  2011-08-01
  • 网络出版日期:  2011-09-21
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
  • 1. 

    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

  1. 本站搜索
  2. 百度学术搜索
  3. 万方数据库搜索
  4. CNKI搜索

/

返回文章