CO和H2分子在Cu(111)面的吸附和溶剂化效应

左志军 黄伟 韩培德 李志红

引用本文: 左志军, 黄伟, 韩培德, 李志红. CO和H2分子在Cu(111)面的吸附和溶剂化效应[J]. 物理化学学报, 2009, 25(12): 2507-2512. doi: 10.3866/PKU.WHXB20091108 shu
Citation:  ZUO Zhi-Jun, HUANG Wei, HAN Pei-De, LI Zhi-Hong. CO and H2 Molecules Adsorption on Cu(111) Surface and Solvent Effects[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2009, 25(12): 2507-2512. doi: 10.3866/PKU.WHXB20091108 shu

CO和H2分子在Cu(111)面的吸附和溶剂化效应

摘要:

采用广义梯度近似(GGA)密度泛函理论(DFT)的PW91方法结合周期性模型, 在DNP基组下, 利用Dmol3模块研究了CO和H2在真空和液体石蜡环境下在Cu(111)表面上不同位置的吸附. 计算结果表明, 溶剂化效应对H2和CO的吸附结构参数和吸附能的影响非常显著. 在液体石蜡环境下, H2平行吸附在Cu(111)表面是解离吸附, 而CO 和H2在两种环境下的垂直吸附都是非解离吸附. 相比真空环境吸附, 在液体石蜡环境中, Cu(111)吸附CO时, 溶剂化效应能够提高CO吸附的稳定性, 同时有利于CO的活化. 在真空中, H2只能以垂直方式或接近垂直方式吸附在Cu(111)表面. 当Cu(111)顶位垂直吸附H2, 相比真空环境吸附, 溶剂化效应能够提高H2吸附的稳定性, 但对H2的活化没有明显影响. Cu(111)表面的桥位或三重穴位(hcp和fcc)垂直吸附H2时, 溶剂化效应能明显提高H2的活化程度, 但降低H2的吸附稳定性; 在液体石蜡中, 当H2平行Cu(111)表面吸附时, 溶剂化效应使H—H键断裂, 一个H原子吸附在fcc位, 另一个吸附在hcp位.

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  • 发布日期:  2009-11-27
  • 收稿日期:  2009-05-19
  • 网络出版日期:  2009-09-16
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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