N2分子在UO(100)表面的吸附与解离

郑金德 陆春海 孙宝珍 陈文凯

引用本文: 郑金德, 陆春海, 孙宝珍, 陈文凯. N2分子在UO(100)表面的吸附与解离[J]. 物理化学学报, 2008, 24(11): 1995-1999. doi: 10.3866/PKU.WHXB20081110 shu
Citation:  ZHENG Jin-De, LU Chun-Hai, SUN Bao-Zhen, CHEN Wen-Kai. Adsorption and Dissociation of N2 Molecule on UO(100) Surface[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2008, 24(11): 1995-1999. doi: 10.3866/PKU.WHXB20081110 shu

N2分子在UO(100)表面的吸附与解离

摘要: 运用密度泛函理论中广义梯度近似(GGA)的VWN-BP方法结合周期性平板模型, 研究N2在UO(100)表面的吸附. 研究表明, N2平行吸附在UO(100)表面穴位为最稳定吸附构型, 吸附能为79.0 kJ·mol-1. Mulliken布居分析显示, N2获得电子. 吸附后, N—N伸缩振动频率发生红移, 波数在1770-2143 cm-1之间. 态密度分析表明, U原子将d、f电子转移至N2的2π轨道. 计算所得解离反应的能垒为266.9 kJ·mol-1.

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  • 发布日期:  2008-11-10
  • 收稿日期:  2008-05-05
  • 网络出版日期:  2008-09-22
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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