不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响

田颖 李浙齐 徐洪峰 吴艳波 杨凤林

引用本文: 田颖, 李浙齐, 徐洪峰, 吴艳波, 杨凤林. 不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响[J]. 物理化学学报, 2008, 24(04): 612-618. doi: 10.3866/PKU.WHXB20080412 shu
Citation:  TIAN Ying, LI Zhe-Qi, XU Hong-Feng, WU Yan-Bo, YANG Feng-Lin. Effects of Different Electrolyte Solutions on Characteristics of Polypyrrole-Modified Films[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2008, 24(04): 612-618. doi: 10.3866/PKU.WHXB20080412 shu

不同电解质溶液对聚吡咯修饰膜性质的影响

摘要: 以对甲基苯磺酸钠(p-TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜, 采用循环伏安法在-1.6 - 0.8 V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为. 结果表明, 在H2SO4溶液中, 以H+的脱出(氧化)/嵌入(还原)为特征, 并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰. 在Na2SO4和NaOH溶液中, 以Na+的脱出(氧化)/嵌入(还原)峰为特征. FT-IR吸收光谱显示, 经NaOH处理后, 聚吡咯膜的长共轭结构被完全破坏, 而经H2SO4和Na2SO4处后, 膜的共轭结构未发生变化.

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  • 发布日期:  2008-04-07
  • 收稿日期:  2007-11-28
  • 网络出版日期:  2008-03-13
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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