强度调制光电流谱研究纳晶薄膜电极过程

肖绪瑞 张敬波 林原 尹峰 李学萍

引用本文: 肖绪瑞, 张敬波, 林原, 尹峰, 李学萍. 强度调制光电流谱研究纳晶薄膜电极过程[J]. 物理化学学报, 2001, 17(10): 918-923. doi: 10.3866/PKU.WHXB20011011 shu
Citation:  Xiao Xu-Rui, Zhang Jing-Bo, Lin Yuan, Yin Feng, Li Xue-Ping. Study of the Kinetics of Nanocrystalline Semiconductor Thin Film Electrode Processes by Intensity Modulated Photocurrent Spectroscopy[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2001, 17(10): 918-923. doi: 10.3866/PKU.WHXB20011011 shu

强度调制光电流谱研究纳晶薄膜电极过程

摘要: 用强度调制光电流谱研究半导体纳晶薄膜电极光生电荷的界面转移和输运动力学过程.从测量不同外加电压和不同硫化钠溶液浓度下CdSe纳晶薄膜电极的光电流响应得到了参数:归一化稳态光电流和表面态寿命,分析界面空穴的直接转移和通过表面态的间接转移过程.通过测量不同背景光强下TiO2纳晶薄膜电极的电子扩散系数研究电子输运过程.应用HCl化学处理方法明显增大了电子扩散系数,改善了电子在TiO2纳晶薄膜电极中的输运性能.

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  • 发布日期:  2001-10-15
  • 收稿日期:  2001-04-25
  • 网络出版日期:  2001-10-15
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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