交流电在Al2O3模板中沉积金属机理探讨

王银海 牟季美 蔡维理 石刚

引用本文: 王银海, 牟季美, 蔡维理, 石刚. 交流电在Al2O3模板中沉积金属机理探讨[J]. 物理化学学报, 2001, 17(02): 116-118. doi: 10.3866/PKU.WHXB20010205 shu
Citation:  Wang Yin-Hai, Mo Ji-Mei, Cai Wei-Li, Shi Gang. Mechanism of Metal Deposited in Porous Alumina by Alternating Current[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 2001, 17(02): 116-118. doi: 10.3866/PKU.WHXB20010205 shu

交流电在Al2O3模板中沉积金属机理探讨

摘要: 以铝阳极氧化形成有序的多孔氧化铝为模板,利用交流电在模板孔洞中沉积金属Ag得到纳米Ag粒子/Al2O3组装体系,透射电镜观察证实在氧化铝模板中有金属纳米Ag粒子存在.分析了交流电能在孔洞中沉积金属的原因是由于Al/Al2O3界面的整流特性,测量了Al/Al2O3界面的I-U关系曲线.

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  • 发布日期:  2001-02-15
  • 收稿日期:  2000-05-08
  • 网络出版日期:  2001-02-15
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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