红外激光诱导SF6与硅和钨的表面化学反应

何志芳 金忠告羽 秦启宗

引用本文: 何志芳, 金忠告羽, 秦启宗. 红外激光诱导SF6与硅和钨的表面化学反应[J]. 物理化学学报, 1989, 5(01): 67-71. doi: 10.3866/PKU.WHXB19890114 shu
Citation:  He Zhi-Fang, Jin Zhong-Kao, Qin Qi-Zong. Infrared Laser Induced SF6 Interaction with Silicon and Tungstun Surfaces[J]. Acta Physico-Chimica Sinica, 1989, 5(01): 67-71. doi: 10.3866/PKU.WHXB19890114 shu

红外激光诱导SF6与硅和钨的表面化学反应

摘要: 本文研究了TEA CO_2激光诱导SF_6与单晶硅和金属钨的表面化学反应。实验结果表明这些反应的反应率与激光频率之间具有明显的依赖关系, 在频率为942.2 cm~(-1)处反应率呈极大值。对于SF_6-Si体系, 反应率与硅的不同晶面有关, 在相同条件下Si(100)面与SF_6的反应率大于Si(111)面。对于SF_6-W体系, 测定了激光能量密度和脉冲辐照次数与反应率之间的关系, 其反应阈值为1 Jcm~(-2), 并测得该反应的速率与SF_6分压呈一级反应关系。同时, 还讨论了上述反应的机理, 认为气态振动受激的六氟化硫分子与被激光激活的固相表面之间的相互作用是反应的主要过程。

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  • 发布日期:  1989-02-15
  • 收稿日期:  1987-06-17
  • 网络出版日期:  1989-02-15
通讯作者: 陈斌, bchen63@163.com
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    沈阳化工大学材料科学与工程学院 沈阳 110142

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